SiO2 Ring Target
SiO₂ Ring Target (Silicon Dioxide Ring Target) là vật liệu quan trọng trong công nghệ mạ PVD (Physical Vapor Deposition) và mạ quang học (Optical Coating), được sử dụng rộng rãi để tạo lớp phủ chống phản xạ (AR), lớp phủ cứng và bảo vệ bề mặt trên kính, gương, thấu kính, linh kiện quang học và kim loại. Với độ tinh khiết cao, SiO₂ Ring Target giúp lớp phủ đồng đều, bền bỉ, chịu nhiệt tốt và trong suốt, đáp ứng yêu cầu khắt khe trong ngành quang học và công nghiệp điện tử.
Hotline: 0799 513 333 - zalo 0985 792 185
Gửi yêu cầu tư vấn
Mô tả sản phẩm

SiO₂ Ring Target – Vật liệu mạ PVD và phủ quang học chất lượng cao

SiO₂ Ring Target (Silicon Dioxide Ring Target) là vật liệu quan trọng trong công nghệ mạ PVD (Physical Vapor Deposition) và mạ quang học (Optical Coating), được sử dụng rộng rãi để tạo lớp phủ chống phản xạ (AR), lớp phủ cứng và bảo vệ bề mặt trên kính, gương, thấu kính, linh kiện quang học và kim loại.

Với độ tinh khiết cao, SiO₂ Ring Target giúp lớp phủ đồng đều, bền bỉ, chịu nhiệt tốt và trong suốt, đáp ứng yêu cầu khắt khe trong ngành quang học và công nghiệp điện tử.


1. SiO₂ Ring Target là gì?

SiO₂ Ring Target là tấm silicon dioxide được gia công dạng ring (vòng tròn), phục vụ quá trình bốc hơi chân không, PVD hoặc sputtering. Trong quá trình này, target SiO₂ được bốc hơi hoặc ion hóa, lắng đọng trên bề mặt sản phẩm để tạo lớp phủ quang học hoặc bảo vệ chất lượng cao.

  • Thành phần: SiO₂ ≥ 99.9%

  • Hình dạng: Ring (vòng)

  • Ứng dụng: AR coating, protective coating, optical coating, PVD coating


2. Ưu điểm của SiO₂ Ring Target

2.1. Độ tinh khiết và ổn định cao

  • Giảm tạp chất → lớp phủ đồng đều, trong suốt

  • Ổn định trong quá trình bốc hơi chân không

2.2. Tính chất cơ lý vượt trội

  • Chịu nhiệt tốt, thích hợp cho PVD và sputtering nhiệt độ cao

  • Cứng, chống mài mòn và chịu hóa chất nhẹ

  • Bền cơ học, bảo vệ bề mặt sản phẩm

2.3. Hiệu suất phủ tối ưu

  • Bốc hơi đều, giảm hao hụt vật liệu

  • Đảm bảo lớp phủ đồng đều trên toàn bộ bề mặt

2.4. Tối ưu cho thiết bị PVD hiện đại

  • Dễ lắp đặt vào các buồng PVD

  • Hình dạng ring giúp tối ưu hóa quá trình bốc hơi và đồng đều lớp phủ


3. Ứng dụng của SiO₂ Ring Target

3.1. Lớp phủ chống phản xạ (AR Coating)

  • Thấu kính, kính camera, thiết bị quang học

  • Giảm phản xạ ánh sáng, tăng truyền sáng và chất lượng hình ảnh

3.2. Lớp phủ bảo vệ bề mặt (Protective Coating)

  • Chống trầy xước, chống ăn mòn cho kính, inox, kim loại

  • Dùng trong thiết bị y tế, điện tử, công nghiệp quang học

3.3. Lớp phủ quang học cao cấp

  • Dùng cho laser optics, gương, linh kiện quang học chính xác

  • Tăng độ bền, độ trong suốt và ổn định lớp phủ


4. Thông số kỹ thuật tiêu chuẩn

Thông số Giá trị
Thành phần SiO₂ ≥ 99.9%
Hình dạng Ring (vòng)
Kích thước Ø50–Ø200 mm, dày 3–10 mm (tùy loại)
Độ tinh khiết 3N – 4N (99.9 – 99.99%)
Khả năng chịu nhiệt >1600°C (nhiệt độ nóng chảy SiO₂)
Ứng dụng PVD coating, optical coating, AR coating, protective coating

5. Lời khuyên khi chọn SiO₂ Ring Target

  • Chọn độ tinh khiết cao để lớp phủ đạt chất lượng quang học tối ưu

  • Chọn kích thước và hình dạng phù hợp với buồng PVD

  • Hợp tác với nhà cung cấp uy tín để đảm bảo chất lượng target


6. Tại sao chọn SiO₂ Ring Target của chúng tôi?

  • Độ tinh khiết cao, chất lượng ổn định

  • Kích thước và hình dạng ring đa dạng, tùy chỉnh

  • Hiệu suất phủ tối ưu cho PVD và sputtering

  • Giao hàng nhanh, an toàn vật liệu

  • Hỗ trợ kỹ thuật chuyên sâu cho mạ quang học và PVD

Đánh giá sản phẩm
0
0 đánh giá
5
0
4
0
3
0
2
0
1
0
Đánh giá của bạn về sản phẩm này:
Gửi đánh giá
Sản phẩm đã xem